製品説明

窒化ホウ素るつぼは、実験室や工業生産で使用される窒化ホウ素 (BN) 材料から作られた高温容器です。{0}窒化ホウ素には、六方晶窒化ホウ素 (h-BN) と立方晶窒化ホウ素 (c-BN) の 2 つの一般的な結晶構造があります。るつぼは主に六方晶窒化ホウ素を使用して製造されます。六方晶窒化ホウ素は、その層状構造とグラファイトに似た外観のため、「白色グラファイト」と呼ばれることがよくあります。この材料はホットプレスや化学気相成長などのプロセスを通じて製造され、優れた熱安定性、化学的不活性性、機械的特性を備えています。高温、腐食性の環境や精密プロセスで広く使用されています。-

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製品名	BNるつぼ
色	クライアントの要件に応じてカスタマイズ
サイズ	クライアントの要件に応じてカスタマイズ
包装	カートン/パレット/木製ケース (クライアントの要件によると)
納期	標準商品-3 日以内
アイテムデザイン	クライアントの図面またはサンプルによると
特徴	高品質、低価格、複数の工場、あなたの場所に最も近い工場に基づいて配送します
応用	工業用セラミックス
証明書	ISO、CE

製品性能

高温安定性:不活性環境または真空環境では、1800 度を超える温度に耐えることができ、短期的な許容範囲は最大約 3000 度です。-高温での軟化や変形に耐性があります。
熱特性:高い熱伝導率（約25-60 W/m・K、ホットプレス方向に垂直に低い）、低い熱膨張係数、優れた耐熱衝撃性、急激な温度変化に耐えます。
化学的不活性度:ほとんどの溶融金属、塩、酸、アルカリ、ガラス溶融物に対して強い耐食性を示し、特に非酸化環境において優れています。-
電気絶縁:高温でも良好な絶縁特性を維持するため、電子または冶金用途に適しています。
濡れ性：溶融物（アルミニウム、銅、シリコン等）との濡れ性が低く、剥離性、洗浄性が容易です。
機械的特性:硬度が低く（モース硬度～2）、複雑な形状の加工が可能です。ただし、中程度の強度と比較的高い脆性があるため、機械的衝撃を避ける必要があります。

製品用途

金属加工と鋳造:アルミニウム、銅、マグネシウム、亜鉛などの非鉄金属およびその合金の溶解、精製、または蒸発に使用され、特に高純度金属の調製に適しています。-
半導体と結晶の成長:シリコンやガリウムヒ素などの半導体材料を溶解したり、単結晶（III-V化合物など）を合成したりするための容器として機能します。
ガラスおよびセラミック産業:特殊ガラス、釉薬、または高温セラミック材料の溶解。-
分析試験:高温熱分析（DSC/TGA など）、アッシング、または化学実験における耐食性るつぼとして使用されます。{0}{1}
真空コーティングと蒸着:アルミニウム、金などの薄膜をコーティングするための電子ビーム蒸着源または熱蒸着源のるつぼとして機能します。
航空宇宙および原子力産業:特殊な条件下での高温部品試験や核燃料処理に使用されます。-
積層造形と複合材料:粉末冶金やセラミック成形のための焼結型や不活性容器として使用されます。

セラミックス性能パラメータ

番号	パフォーマンス	ユニット	窒化ホウ素	窒化ホウ素	窒化ホウ素
			窒化ホウ素	窒化ホウ素	窒化ホウ素
			BN99.9%	BN99.7%	BN99.5%
1	密度	g/cm3		1.6	1.9
2	曲げ強度	MPa	94~95	20	35
3	破壊靱性	MPa・m1/2		8	11~14
4	誘電率	εr(20度、1MHz)	4.37	1.9~3.8	1.9~3.8
5	硬度	GPa	1.15	2	4
	硬度	HRC		35	40
6	体積抵抗率	Ω・cm(20度)		10 14	10 14
7	弾性率	GPa	29.4
8	熱膨張係数	×10-6/k		1`1.5	0.6(x10-6/K) RT-1500度
9	圧縮強度	MPa	118~120	30	30
10	擦り傷	g/cm2		0.3	0.3
11	熱伝導率	W/m×k(20度)		35	63~75W/mk
12	ポアソン比	/		0.5	0.5
13	絶縁強度	kv/mm		28	28
14	温度	程度	空気中 1000/不活性雰囲気中 2200	空気中 1000/不活性雰囲気中 2200	850 空気中/2200 不活性雰囲気中